MOS2,二硫化鉬,二硫化鎢,特氟龍,鎳特氟龍,碳納米鍍層,聚防爆防水涂層。CNTs系列碳納米管 DLC類(lèi)金剛石涂層 pvd聚脲…
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更新日期2023-02-04 11:23
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品牌: |
上海涓微 |
所在地: |
上海 浦東 |
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有效期至: |
長(zhǎng)期有效 |
摩擦系數(shù): |
0.02 |
硬度: |
60GPa或Hv4800以上 |
工作溫度: |
500°+ |
DLC涂層真空鍍膜生產(chǎn)工藝流程一般包括DLC鍍膜前處理、DLC鍍膜和DLC鍍膜后處理3大步。
DLC鍍膜前處理是獲得良好鍍層的前提,DLC鍍膜一般包括機(jī)械加工、酸洗、除油等步驟。DLC鍍膜機(jī)械加工是指用機(jī)械的方法,DLC鍍膜除去鍍件表面的毛刺、氧化物層和其他機(jī)械雜質(zhì),使鍍 件表面光潔平整,這樣可使DLC鍍膜與基體結(jié)合良好,防止毛刺的發(fā)生。DLC鍍膜酸洗的目的是為了除去鍍件表面氧化層或其他腐蝕物,DLC鍍膜除油的目的是清除基體表面上的油脂。
DLC鍍膜件經(jīng)鍍前處理,即可進(jìn)人DLC鍍膜工序。DLC鍍膜在進(jìn)行DLC鍍膜時(shí)還必須注意DLC鍍膜液的配方,電流 密度的選擇以及溫度、等的調(diào)節(jié)。DLC鍍膜需要說(shuō)明的是,單鹽電解液適用于形狀簡(jiǎn)單、外觀 要求又不高的鍍層,絡(luò)鹽電解液分散能力高,DLC鍍膜時(shí)電流密度和效率低,DLC鍍膜主要適用于表面 形狀較復(fù)雜的鍍層。
真空鍍膜設(shè)備DLC薄膜沉積材料廣泛:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法薄膜無(wú)法沉積的低電位金屬,真空鍍膜機(jī)DLC薄膜通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系。相對(duì)于傳統(tǒng)水電鍍有以下優(yōu)勢(shì)
真空鍍膜設(shè)備DLC薄膜節(jié)約金屬材料:真空鍍膜機(jī)DLC薄膜由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良,沉積的鍍層厚度可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法類(lèi)金剛石薄膜鍍層,達(dá)到節(jié)約材料的目的。真空鍍膜機(jī)DLC薄膜無(wú)環(huán)境污染:真空鍍膜機(jī)DLC薄膜由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面,沒(méi)有溶液污染,所以對(duì)環(huán)境沒(méi)有危害。
傳統(tǒng)水電鍍由于對(duì)環(huán)境的污染及需要使用一些劇毒原料,已經(jīng)被各級(jí)地方所限制發(fā)展。目前一些企業(yè)設(shè)立了集中污水處理的水電鍍工業(yè)園,在一定程度上改變了污水亂排放的現(xiàn)象。但污水處理成本高、能耗高,而且造成水資源的浪費(fèi)。而歐盟等對(duì)進(jìn)口產(chǎn)品中六價(jià)鉻、鎳的含量也有嚴(yán)格限制。真空鍍膜機(jī)DLC薄膜相對(duì)于傳統(tǒng)水鍍膜的優(yōu)勢(shì),利用真空鍍膜技術(shù)逐步替代傳統(tǒng)水電鍍,使我們傳統(tǒng)水電鍍行業(yè)進(jìn)行技術(shù)升級(jí)、技術(shù)改造,既符合環(huán)保政策,又可以滿(mǎn)足產(chǎn)品出口的要求,同時(shí)提高出口產(chǎn)品的附加值。
DLC涂層的特性:
由于含有金剛石成分,DLC具有很多優(yōu)良的特性:高硬度-60GPa或Hv4800以上;低摩擦系數(shù)0.02;極好的膜層致密性;良好的化學(xué)穩(wěn)定性以及良好的光學(xué)性能等。應(yīng)用于模具上的DLC涂層所表現(xiàn)出的特殊性能遠(yuǎn)超過(guò)其它硬質(zhì)涂層。涂以DLC的沖壓模具主要應(yīng)用包括:石墨切削,各種有色金屬(如鋁合金,銅合金等)切削,非金屬硬質(zhì)材料(如亞克力,玻璃纖維,PCB材料)切削等。
DLC涂層的工業(yè)化生產(chǎn)開(kāi)始于上世紀(jì)末和本世紀(jì)初,和普通的應(yīng)用于模具上的硬質(zhì)涂層(如TiN, TiAlN, CrN, TiCN等)相比是一種嶄新的涂層技術(shù)。目前在世界范圍內(nèi),能將這一技術(shù)很好應(yīng)用的廠家也沒(méi)有。DLC是新一代硬質(zhì)涂層技術(shù)和應(yīng)用的典型代表以及發(fā)展方向。
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