蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量?jī)x器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻原理

通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

工藝流程

曝光法:工程根據(jù)圖形開出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

網(wǎng)印法:開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK

金屬蝕刻

金屬蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

•     中文名稱；金屬蝕刻

•     定義；將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)

•     分類；濕蝕刻和干蝕刻

簡(jiǎn)介

金屬蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。

原理

通常所指金屬蝕刻也稱光化學(xué)金屬蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要金屬蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在金屬蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。 最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量?jī)x器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密金屬蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，金屬蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

產(chǎn)品用途:

蝕刻加工 主要應(yīng)用于精密工程，電子，通訊，家電行業(yè),工藝禮品

產(chǎn)品特點(diǎn):

蝕刻加工線條均均，無毛剌，無缺口

產(chǎn)品價(jià)格:

以材料材質(zhì)、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定

蝕刻加工能力:

6條蝕刻生產(chǎn)線，12米蝕刻機(jī)可大批量生產(chǎn)，每天生產(chǎn)高達(dá)3000平方米

樣品提供:

付費(fèi)打樣，樣品3天內(nèi)。

批量生產(chǎn)時(shí)間:

正常一星期內(nèi)

產(chǎn)品蝕刻特點(diǎn)

一、低開模費(fèi),蝕刻加工可以按設(shè)計(jì)人員的要求進(jìn)行任意更改設(shè)計(jì)要求，成本低

二、能實(shí)現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實(shí)現(xiàn)品牌化生

三、極高的精密度,可達(dá)+/-0.01mm的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求

四、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本

五、沒有毛刺，壓點(diǎn)，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能

六、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求

七、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對(duì)各種圖案設(shè)計(jì)無限制

八、制造各類機(jī)械加工所無法完成的金屬部件

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