水處理設(shè)備及反滲透設(shè)備的工藝和原理

反滲透設(shè)備技術(shù)的應(yīng)用原理是由傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器得到了一次進(jìn)步。近年來開始在國外推廣應(yīng)用的EDI（電去離子）技術(shù)，則是處理設(shè)備制造技術(shù)的一次革命，從此進(jìn)入了一個無需再生化學(xué)品，而能生產(chǎn)出高達(dá)18MΩ.CM的超水，用于半導(dǎo)體，集成電路等行業(yè)。

反滲透設(shè)備一般包括預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。

反滲透設(shè)備工藝原理：

原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器（石英砂過濾器）→活性炭過濾器→軟水處理器（添加族垢劑裝置）→精密過濾器→高壓泵→一級反滲透（RO）裝置→紫外線殺菌裝置（臭氧殺菌裝置）→用水點(diǎn)

反滲透設(shè)備組成原理：

反滲透設(shè)備一般包括預(yù)處理、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。

預(yù)處理系統(tǒng)一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體的情況而定。

反滲透裝置主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿足使用要求。

后處理系統(tǒng)是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、EDI等其中的一種或者多種設(shè)備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質(zhì)更好的提高，使之滿足使用要求。

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